Core Facility "Fertigungstechnik"

Restschichtfreie Wellenleiter mit Bragg-Gitter Herstellung durch Nanolithografie auf Folien für Sensoranwendungen (BG Periode: 205 nm,
Wellenleiter Breite: 2 µm, Wellenleiter Höhe: 2,4 µm) © CF 2

Fertigungstechnik für bioinspirierte Materialien mit Schwerpunkten auf Nanolithografie-, Folien- und 3D-Druck-Technologien

• Zur Unterstützung der Forschungsprojekte im FIT wird eine leistungsstarke Core Facility für die funktionale Formgebung und effiziente Fertigung von (Mikro-)Systemen und adaptiven bioinspirierten Werkstoffen geschaffen.
• Insbesondere gilt es, die Methoden zur Realisierung von Nanometerstrukturen mittels der Elektronenstrahllithographie und der UV-NIL (UV-Nanoimprint-Lithographie) und die Methoden zur Realisierung von Mikrometerstrukturen mittels der HE-NIL (Hot-Embossing-Nanoimprint-Lithographie) und 3D-Druck Technologie für unterschiedliche Anwendungen auf Folien spezifisch angepasst bereitzustellen und weiter zu entwickeln.
• Eine Liste der Geräte finden Sie unter "Technische Ausstattung".
• Zur Nutzung der Geräte beachten Sie bitte die Geräte- und Benutzerordnung sowie die Gerätegebühren.
• Wissenschaftlicher Leiter: Prof. Dr. Claas Müller
• Verantwortliche Managerin: Prof. Dr. Jing Becker